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导师信息
姓名 丁振峰
院系 物理与光电工程学院
办公电话 84709795-24
电子信箱 zfding@dlut.edu.cn
更新时间 2007-8-27
工作经历：
学习简历：
1981年9月-1985年7月 山东大学，获理学学士学位
1985年9月-1988年7月 中科院等离子体物理研究所，获理学硕士学位
1988年9月-1993年3月 中科院等离子体物理研究所，获理学博士学位
工作简历：
1993-03-1997-01 中科院等离子体物理研究所，助理研究员
1997-01-1998-09 中科院等离子体物理研究所，副研究员
1998-09月- 大连理工大学，副研究员
其间：2000-3-2000-5，2001-5-2002-5
赴法国Limoges大学国家研究中心陶瓷工程及表面处理实验研究室进行合作研究。
社会兼职：
Plasma Science and Technology(Sci刊源期刊）期刊审稿人
Physics of Plasmas (美国，Sci刊源期刊）期刊审稿人
国家自然科学基金数理学部物理II通讯评审人
研究领域（研究课题） ：
低温等离子体物理及应用
硕博研究方向：
1.等离子体不稳定性
2.磁化等离子体波导特性
3.等离子体电磁诊断
4.射频、微波等离子体源技术及其应用
5.等离子体非线性现象
出版著作和论文：
1.Ding,ZF;Huo, WG; Wang, YN,Novel low-frequency oscillation in a radio-frequency inductively coupled plasma with tuned substrate, Physics of Plasmas, 2004,11(6),3270-3277
2.Ding,ZF;Huo,WG;WangYN，Numerical studies on the polarities of electromagnetic wave modes in a magnetoplasma-filled cylindrical waveguide，
J. Plasma Phys.,2004,70(6)681-697
3.Ding,ZF; Chen, LW; Wang, YN,Splitting and mating properties of dispersion curves of wave modes in a cold magnetoplasma-filled cylindrical conducing waveguide, Physics of Plasmas, 2004,11(3),1168-1172
4.Ding,ZF;Liu,XF;Ma,TC,Polarities of electromagnetic-wave modes in a magnetoplasma-filled cylindrical waveguide,Japanese J.Applied Physics.2001 40(Part1),837-838
5.Yu SJ; Ding, ZF; Xu, J; Zhang, JL; Ma, TC,CVD of hard DLC films in a radio frequency inductively coupled plasma source, Thin Solid film,2001,390(1-2), 98-103
6.Lin,GQ; Ding, ZF; Qi, D; Zhao, YH; Wang, NH; Dong, C; Huang, RF; Wen, LS ,Plasma load characteristics of pulsed-bias arc ion plating,J.Vacuum Science & Technology 2003,A21(5),1675-1679
7.P. Tristant,;Ding, Z; Vinh, QBT; Hidalgo, H; Jauberteau, JL; Desmaison, J; Dong, C ,Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: OES diagnostics and influence of the RF bias,Thin Solid Film, 2001,390(1-2),51-58
8.Ding, ZF; Tristant, P; Desmaison, J; Dong, C; Wang,YN Characteristics of microwave discharge in a modified surfaguide with a large diameter,Chin Phys. Lett. 2003,20(10),1792-1794
9.Ding, ZF;Sun JC; Wang YN，Influence of discharge parameters on tuned substrate self-bias in an radio-frequency inductively coupled plasma，Plasma Science & Technology，2005,7(6)3117-3121
10.Ding, ZF; Huo WG Wang YN，The tuned substrate self-bias in a radio-frequency inductively coupled plasma，Plasma Science & Technology，2004，6(6)，2549-2558
11.Lin, G.Q. Ding, Z.F.; Qi, D.; Wang, N.H.; Huang, M.D.; Wang, D.Z.; Wang, Y.N.; Dong, C.; Wen, L.S. ,Fundamental problems in pulsed-bias arc deposition Acta Metallurgica Sinica, 2002,15(1),91-103
12.Ding Zhen-feng, Liu Xu-feng, Ma Teng-cai, A study on the tuned bias of substrate in an inductively-coupled plasma source，Plasma Science & Technology，2001，3(3),775-779
13.Qi, Dong Wang, Ninghui; Lin, Guoqiang; Ding, Zhenfeng，Simplification of the plasma load of negative-pulse-bias source used in arc ion plating， Journal of Materials Science and Technology,2003，19,97-98
14.丁振峰, 霍伟刚, 王友年, 射频感性耦合等离子体调谐基片射频自偏压特性,核聚变与等离子体，2004，第24卷（3）,197-202
科研成果及所受奖励：
在读学生人数 ：
3
毕业学生人数：
5
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